電鍍氧化是鍍層材料屬（shǔ）性、基材特性、環境因素共同（tóng）作用的（de）結果，核心矛盾在於（yú）鍍層與環境的能量差（熱（rè）力學不穩定性）和反應動力（lì）學條件的達成。下麵
煙台電鍍廠就（jiù）為您簡（jiǎn）單（dān）介紹一下電鍍氧化的根本原因（yīn）有哪（nǎ）些。
1. 環境介質的侵蝕性
濕度與電解質：相對濕度（RH）超過 65% 時，水膜在鍍層（céng）表麵（miàn）形（xíng）成電解質層，促進離子（zǐ）遷移和電化學反應。例如：
氯化（huà）物離子（zǐ）（Cl?）半徑小、穿透（tòu）力強，可破壞鍍層鈍（dùn）化膜（如鉻（gè）酸鹽鈍化（huà）膜），誘發點蝕。
二氧化硫（SO?）溶（róng）於水形（xíng）成亞（yà）硫酸（H?SO?），加速銅、銀等鍍層的硫化腐蝕。
溫度效應：煙台電鍍廠提醒您溫（wēn）度每升高 10℃，氧化反應速率提高 2-3倍。高溫環境（如汽車發動機艙）會加速鍍（dù）層與氧（yǎng）氣的擴散反應。
2. 鍍層材料（liào）的（de）熱力學不（bú）穩定性
金屬活性差異：煙台電（diàn）鍍廠提醒您電鍍層金屬（如鋅、銅、鎳（niè））的標準（zhǔn）電極電位普遍低於貴金屬（如金、鉑），在含氧環境中易被氧（yǎng）化。例如（rú）：
鋅的標準電極電位為 -0.76V，在潮濕空氣中會自發反應生成 ZnO（白色腐蝕產物）。
銅的標準電極電位為 +0.34V，在含硫環境中（zhōng）易生成 Cu?S（黑色硫化物（wù））。
相結構缺陷：鍍層中存在的晶格畸變、位（wèi）錯、晶界等缺（quē）陷區域能量較高，優先成為氧化反應的活（huó）性位（wèi）點。例（lì）如，電
鍍（dù）鎳層中的柱狀晶結構易沿晶界（jiè）形成（chéng）氧化通道。
3. 鍍層與基材的電偶腐蝕
電位差驅動：煙台電鍍廠提醒您當鍍層（céng）與基材（cái）的電極電位（wèi）差超過 0.25V（經驗（yàn）閾值）時（shí），會形成微電池腐蝕。例如：
鋼鐵基（jī）材（電位 -0.44V）上電
鍍鋅（電（diàn）位 -0.76V），鋅作為陽極優先溶（róng）解，同時生成 Zn(OH)? 或 ZnO。
煙台電鍍廠提醒（xǐng）您若鍍層存在孔隙，基材鐵暴露後與鍍層形（xíng）成大陰極-小陽極（jí）結（jié）構，加速基材腐蝕並導（dǎo）致鍍層鼓包。
